STRUKTUR DAN SIFAT OPTIK LAPISAN TIPIS TiO2 (TITANIUM OKSIDA) YANG DIHASILKAN DENGAN MENGGUNAKAN METODE ELEKTRODEPOSISI

Abstract

Telah dilakukan elektrodeposisi lapisan tipis TiO2 di atas substrat ITO (Indium Tin Oxide) dengan menggunakan larutan elektrolit TiCl4 (Titanium (IV) klorida) dan katalis H3BO3 (Boric Acid).  Didapatkan hasil karakterisasi XRD pada lapisan tipis TiO2  yang dideposisi menggunakan 1.5M TiCl4 tanpa menggunakan katalis H3BO3 berada dalam fase anatese sedangkan lapisan tipis TiO2 yang dideposisi menggunakan 1.5M TiCl4 dengan menggunakan katalis H3BO3 berada dalam fase rutile.  Spektrum UV-Vis menunjukkan lapisan tipis TiO2 dalam fase anatase memiliki energi gap sebesar 3,25 eV sedangkan dalam fase rutile memiliki energi gap sebesar 3,7 eV.  Hasil karaktarisasi SEM menunjukkan bahwa elektrodeposisi lapisan tipis TiO2 menghasilkan morfologi permukaan yang lebih halus pada sampel tanpa menggunakan katalis dibandingkan dengan elektrodeposisi sampel yang menggunakan katalis..  Berdasarkan hasil yang diperoleh, maka deposisi lapisan tipis TiO2 ini dapat dijadikan acuan untuk pemanfaatan pada aplikasi sel surya DSSC.