Elektrodeposisi Lapisan TiO2 Untuk Aplikasi Lapisan Self Cleaning

Abstract

Lapisan TiO₂ telah disintesis pada substrat besi yang terlapisi Nikel dan Kromium menggunakan prekursor TiCl₃.  Lapisan TiO₂ disintesis dengan metode elektrodeposisi pada tegangan 3 V dan 4 V, dengan variasi kosentrasi TiCl₃ 0,1 hingga 1 M.  Pola XRD menunjukkan bahwa lapisan TiO₂ yang terbentuk berfasa anatase.  Hasil SEM menunjukkan bahwa elektrodeposisi dengan TiCl₃ 0,4 M pada tegangan 3 V menghasilkan morfologi lapisan tipis TiO₂ yang lebih merata dibandingkan dengan sampel-sampel yang lainnya.  Hasil pendeposisian lapisan pada tegangan 4 V menghasilkan lapisan yang berwarna hitam.  Dari pengukuran sudut kontak  diketahui bahwa sampel bersifat hidrofobik dengan sudut kontak di atas 90°.  Sampel dengan kosentrasi TiCl₃ 0,4 M dan tegangan 3 V memiliki lapisan TiO₂ yang memiliki sifat self cleaning terbaik dengan sudut kontak rata-rata 104,3°.

Kata kunci : Lapisan TiO₂, sudut kontak, self cleaning